Sasaran Molibdenum Khas

Sasaran Molibdenum Khasialah-bahan sputtering ketulenan tinggi yang direka khusus untuk aplikasi pemendapan filem nipis{1}}termaju dalam industri semikonduktor, paparan, fotovoltaik dan elektronik. Dihasilkan daripada bahan mentah molibdenum premium dan diproses melalui metalurgi serbuk termaju, penempaan, penggulungan dan teknologi pemesinan ketepatan, sasaran molibdenum kami menawarkan ketumpatan yang sangat baik, struktur butiran seragam dan prestasi percikan yang unggul. Dengan takat lebur yang tinggi (2623 darjah ), kekonduksian terma yang sangat baik, pekali pengembangan terma yang rendah memastikan kakisan sasaran, dan penentangan sasaran yang luar biasa ini. kehidupan, dan kualiti filem yang konsisten sepanjang proses sputtering. Ketulenan tinggi dan struktur mikro homogen membantu meminimumkan penjanaan zarah, meningkatkan keseragaman filem, dan meningkatkan kecekapan pengeluaran dalam menuntut persekitaran salutan vakum.

· kesucian

Ketulenan tinggi adalah keperluan ciri asas untuk sasaran molibdenum Khas. Prestasi filem sputtered bertambah baik dengan peningkatan ketulenan sasaran molibdenum.. Ketulenan sasaran sputtered molibdenum biasa perlu sekurang-kurangnya 99.95% (pecahan jisim, sama di bawah). Walau bagaimanapun, apabila saiz substrat kaca dalam industri LCD terus meningkat, panjang pendawaian perlu dipanjangkan dan lebar talian menjadi lebih nipis. Untuk memastikan keseragaman filem dan kualiti pendawaian, keperluan ketulenan untuk sasaran sputtering molibdenum juga telah ditingkatkan dengan sewajarnya. Oleh itu, bergantung pada saiz substrat kaca sputtering dan persekitaran penggunaan, ketulenan sasaran sputtering molibdenum diperlukan untuk 99.99%~99.999% atau lebih tinggi. Sasaran sputtering molibdenum berfungsi sebagai sumber katod dalam sputtering. Kekotoran dalam pepejal dan oksigen dan wap air dalam liang-liang adalah sumber utama pencemaran bagi filem termendap. Selain itu, dalam industri elektronik, ion logam alkali (Na+.K+) dengan mudah menjadi ion mudah alih dalam lapisan penebat, mengurangkan prestasi komponen; unsur seperti uranium (U) dan titanium (Ti) boleh membebaskan sinar, menyebabkan peranti rosak lembut; ion besi dan nikel akan menyebabkan kebocoran antaramuka dan peningkatan unsur oksigen. Oleh itu, semasa proses penyediaan sasaran molibdenum Khas, unsur-unsur kekotoran ini perlu dikawal dengan ketat untuk meminimumkan kandungannya dalam sasaran.

· Ketumpatan

Semasa proses salutan sputtering, apabila sasaran sputtering yang kurang padat dibombardir, gas dalam liang dalaman sasaran dilepaskan secara tiba-tiba, menyebabkan zarah atau zarah sasaran bersaiz langit{0}}percikan, atau bahan filem dihujani oleh elektron sekunder selepas pembentukan filem. Zarah-zarah itu terbang jauh. Kehadiran zarah ini merendahkan kualiti filem. Untuk mengurangkan liang kering pepejal dalam bahan sasaran dan meningkatkan prestasi filem, bahan sasaran sputtering biasanya diperlukan untuk mempunyai ketumpatan yang lebih tinggi. Untuk sasaran sputtering kon, ketumpatan relatifnya hendaklah melebihi 98%.

· Sasaran dan mengikat casis

Sasaran molibdenum khas mesti disambungkan kepada-casis tembaga bebas oksigen (atau aluminium dan bahan lain) sebelum terpercik, supaya sasaran dan casis menjalankan kekonduksian terma dan elektrik yang baik semasa proses sputtering. Selepas mengikat, ia mesti menjalani pemeriksaan ultrasonik untuk memastikan bahawa kedua-duanya tidak digabungkan sebanyak 2%. Hanya dengan cara ini ia boleh memenuhi keperluan percikan kuasa semula jadi tanpa jatuh.

· Saiz bijirin dan taburan saiz

Biasanya sasaran molibdenum Khas mempunyai struktur polihabluran, dan saiz butiran boleh berkisar dari mikron hingga milimeter. Penyelidikan eksperimen menunjukkan bahawa kadar penembakan sasaran dengan butiran bersaiz halus-lebih pantas daripada sasaran berbutir-kasar; dan sasaran dengan perbezaan saiz butiran yang lebih kecil, taburan ketebalan filem yang didepositkan juga lebih seragam.

· Orientasi kristal

Oleh kerana atom sasaran mudah tersembur keluar mengikut keutamaan mengikut arah susunan heksagon terdekat atom semasa sputtering, jadi untuk mencapai kadar sputtering tertinggi, kadar sputtering sering ditingkatkan dengan menukar struktur kristal sasaran. Arah kristalografi sasaran juga mempunyai pengaruh yang besar terhadap keseragaman ketebalan filem terpercik. Oleh itu, mendapatkan struktur sasaran orientasi kristal tertentu adalah penting untuk proses sputtering filem nipis.

Garis panduan:

GB/T3876-83, GB/T14592-93, QJ/BHZ02.68-89

Paparan Panel Rata (FPD)

Sesuai untuk pendawaian, elektrod talian matriks dan lapisan penghalang dalam skrin TFT-LCD dan OLED. Pada masa lalu, bahan pendawaian paparan panel rata kebanyakannya adalah buasir, tetapi apabila paparan panel rata menjadi lebih besar dan lebih tepat, bahan dengan galangan khusus yang lebih rendah semakin diperlukan. Selain itu, perlindungan alam sekitar juga perlu diambil kira. Molibdenum mempunyai kelebihan hanya 1/2 galangan khusus dan tegasan filem kromium, dan tiada masalah pencemaran alam sekitar, jadi ia telah menjadi salah satu bahan pilihan untuk sasaran sputtering untuk paparan panel-rata.

Semikonduktor & Pembungkusan Mikroelektronik

Apabila nod pembuatan semikonduktor terus mengecut, molibdenum dan aloi khususnya (seperti Mo-Ti dan Mo-Nb) semakin banyak digunakan sebagai penghalang resapan, elektrod get, lapisan logam sentuhan dan lapisan penutup dalam Litar Bersepadu (IC), peranti semikonduktor kuasa dan MEMS. Diletakkan di antara bahan dielektrik dan talian saling bersambung tembaga atau aluminium, lapisan molibdenum secara berkesan menghalang penghijrahan atom yang memudaratkan dan tindak balas antara muka.

Photovoltaics & Nipis-Sel Suria Filem

Molibdenum berfungsi sebagai lapisan elektrod hubungan-sebalik yang diterima secara universal dalam modul suria filem-jenis kalkopirit-tipis, terutamanya sel Copper Indium Gallium Selenide (CIGS) dan Cadmium Telluride (CdTe). Sebagai sesentuh belakang, lapisan molibdenum yang terpercik mesti membentuk sesentuh ohmik yang boleh dipercayai dengan lapisan penyerap sambil kekal lengai secara kimia semasa pemprosesan-suhu tinggi yang agresif atau sulfurisasi.

Rendah-E Kaca & Salutan Fungsi Pintar

Percikan magnetron sebaris berskala besar-menggunakan molibdenum tulen serta Molibdenum-Niobium (Mo-Nb) dan Molibdenum-Sasaran aloi Chromium (Mo-Cr) untuk memodulasi ciri terma dan optik kaca seni bina dan automotif moden. Dalam tindanan kaca -Emisiviti Rendah (Rendah-E), lapisan molibdenum bertindak sebagai penghalang penting, pembenihan atau penghalang pengorbanan yang direka untuk melindungi-perak nipis (Ag) inframerah-lapisan reflektif daripada pengoksidaan semasa prosedur suhu tinggi{10}}dan lenturan kaca yang teruk.

 

S: Berapa lama masa penghantaran anda?

J: Cakera saiz standard-sasaran atau segi empat tepat biasanya dihantar dalam masa 2–3 minggu. Konfigurasi tersuai, sasaran boleh putar besar atau pemasangan yang memerlukan ikatan Indium biasanya mengambil masa 4–5 minggu.

S: Bagaimanakah anda mengawal kesucian dan kualiti sasaran anda?

J: Kami menguruskan kualiti bermula daripada serbuk bahan mentah. Setiap kelompok menjalani Ujian Komposisi Kimia dan Analisis Saiz Bijian. Produk akhir menerima Sijil Analisis (COA) komprehensif yang mengandungi keputusan ujian kekotoran GDMS dan laporan Ujian Ultrasonik (UT) untuk integriti struktur.

S:Bolehkah anda menyediakan sasaran aloi seperti Mo-Ti atau Mo-Nb?

A: Ya. Kami pakar dalam aloi molibdenum binari dan berbilang-komponen (cth, Mo-Ti 50/50 wt%, Mo-Nb 90/10 pada%). Teknologi campuran serbuk proprietari kami menghalang pengasingan fasa, memastikan komposisi seragam sempurna sepanjang keseluruhan volum sasaran.

S: Bolehkah anda memberikan sampel?

A: Sudah tentu, Kami Boleh Menghantar Sampel Percuma Untuk Ujian Anda Mengikut Keperluan Anda, Anda Hanya Perlu Membayar Jumlah Penghantaran Yang Kecil.

S: Apakah MOQ?

A: Produk Ini Adalah Produk Tersuai, Yang Secara Umumnya Disediakan Mengikut Lukisan. Jika Anda Ingin Menguji Sampel Dulu, Kami Boleh Mengikut Saiz Stok, 1 Keping Juga Ada.

S: Apakah Jenis Sijil yang Anda Ada?

J: Kami Memiliki ISO 9001, CE, Dan Banyak Lagi. Sila Hubungi Terus Kakitangan Jualan Kami Untuk Maklumat Tambahan.

 

kenapa pilih kami

 

 

Ehisen

 

ShaanxiEHISEN Technology Co., Ltd.ialah pengeluar utama yang mengkhusus dalam-logam refraktori berprestasi tinggi dan salutan termaju dengan lebih 20 tahun kepakaran industri yang mendalam. Disokong oleh15+ paten negaradan sistem pengurusan kualiti ISO 9001 yang ketat, kami menyampaikan-bahan sasaran kejuruteraan tersuai kepada lebih 520 pelanggan di seluruh dunia.

Kemudahan canggih-kami--mengintegrasikan keseluruhan rantaian pengeluaran-daripada penyediaan serbuk bahan mentah dan pemadatan kepada pensinteran, penggulungan, pemesinan dan ikatan plat sandaran. Dilengkapi dengan instrumen ujian lanjutan termasukGDMS(Spektrometri Jisim Pelepasan Cahaya) untuk kesan kekotoran,Ultrasonik C-Imbasanuntuk integriti ikatan, danMikroskop Metalografikuntuk analisis saiz butiran, EHISEN menjamin 100% kebolehkesanan dan prestasi elit untuk setiap kumpulan yang dihantar.

 

 

 

 

Butiran Pembungkusan: Selepas ujian, produk yang layak akan dibungkus mengikut pembungkusan eksport atau dengan kertas lembut di dalam bekas kayu di luar.

 

Maklumat Penghantaran: 3–15 hari bekerja selepas penghantaran; bola titanium dibungkus dengan berhati-hati, berhati-hati, dan keselamatan yang melampau.

 

Untuk anda, kami akan memilih kaedah penghantaran yang paling suai manfaat, menjimatkan dan selamat antara penghantaran ekspres, udara dan laut.

 

Sebelum penghantaran, pelanggan kami akan menerima gambar produk yang telah siap, maklumat pada pembungkusan dan MTC selepas mereka berpuas hati dengan tawaran kami. Kami akan menghantar barangan tepat pada masanya. imej yang anda lihat menggambarkan barangan dengan tepat.

 

 

 

Cool tags: sasaran molibdenum khas, pengeluar sasaran molibdenum khas China, pembekal, kilang, Brosur Molybdenum, Krisis Molybdenum, Molybdenum အကျပ်အတည်း, Molybdenum Flyer, Toleransi Molybdenum, Laman web Molybdenum